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雙面拋光機(jī)加工依賴于工件、研磨顆粒、拋光液和拋光盤的機(jī)械作用，在工件拋光過程中產(chǎn)生局部高溫和高壓。物理和化學(xué)變化直接發(fā)生在工件和拋光液和拋光盤之間，導(dǎo)致工件表面的物理和化學(xué)變化。

由于機(jī)械和化學(xué)的重疊，工件表面的反應(yīng)不斷磨損，使工件表面光滑[2]。雙面拋光技術(shù)是在單面拋光技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，因?yàn)樗梢杂行У乇苊鈶?yīng)力差和粘結(jié)誤差引起的變形。因此，與單面拋光相比，雙面拋光具有加工效率高、表面變形小、加工表面超光滑等優(yōu)點(diǎn)。

一般來說，雙面拋光機(jī)由四個(gè)部分組成：承載工件和下拋光盤的工作臺(tái)、承載上拋光盤、驅(qū)動(dòng)工件旋轉(zhuǎn)的行星輪和提供拋光液的裝置。在雙面拋光過程中，由于拋光液與拋光墊之間的物理運(yùn)動(dòng)，拋光液中的化學(xué)溶液和研磨顆粒在工件中發(fā)生化學(xué)變化。同時(shí)，在上拋光盤對(duì)工件的旋轉(zhuǎn)壓力作用下，去除工件表面產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)物。

雙面拋光機(jī)原理是，在不斷的化學(xué)變化中，工件表面產(chǎn)生化學(xué)膜。由于旋轉(zhuǎn)機(jī)械摩擦去除化學(xué)膜，超精密表面不斷交替獲得。這種超精密表面處理也被稱為游離磨料CMP。在這種加工中，不能選擇比工件硬度高的磨粒，只能選擇比工件軟或相當(dāng)于磨粒硬度的磨粒。

在機(jī)械化學(xué)的雙重作用下，工件表面不斷產(chǎn)生非常薄的化學(xué)薄膜，同時(shí)去除，實(shí)現(xiàn)非常薄的表面處理，實(shí)現(xiàn)高精度、低表面粗糙度、無表面處理缺陷的工件表面。